随着近年来科学技术的飞速发展，我国已经拥有了许多世界上先进的高科技武器装备。早在20世纪60年代，我们就成功地研制了原子弹。现在随着科技的不断进步，我们在这方面的经验已经相当成熟。
虽然我们有着很多的高端技术，但是有一个东西直到今天我们仍然很难造出来，这就是光刻机。说到这肯定会有人要说了，我们连原子弹都能造出来，还弄不出来一个小小的光刻机？首先我们先来分析一下两者的区别在哪里。
原子弹的原理是利用中子与铀原子核碰撞产生核裂变，然后产生爆炸。虽然这个原理看似简单，但实际上构建起来非常困难。一是要有高浓度的核燃料，二是要有一些科技人才来完成这样一个复杂的大型工程系统。当时我们在造原子弹的时候，可以得到我们需要的相关材料，而且当时有像钱学森、邓稼先这样的杰出人才，他们克服了各种各样的技术和条件的困难，所以我们才有了这些东西。
而光刻机就不一样了，我们来了解一下光刻机的原理。是一种用来制造芯片的机器。制造芯片时，它在硅片表面覆盖一层光刻胶，然后通过掩膜板用光照射硅片表面。这时候光敏胶受到光的刺激就会溶解，然后形成自己的电路。这个原理听起来并不复杂，但是为什么做不出来呢？要知道，这种电路板的精度是纳米级的，大概是一根头发丝的5000倍，而这种光刻机使用的镜头要求不能有2纳米的误差。这种技术水平现在放在世界上，也是顶尖水平。
在除了要求极为严格的精度水平，还需要顶级的光源和其光学系统极为复杂，目前世界上最先进的是极紫外光，由于技术难度极大，我国到现在还没有突破。,只有美国掌握了这项先进技术。就算能研发出光刻机，生产的精度还是相当落后的。别人能生产的光刻机都在5纳米的级别，而我国目前只突破了14纳米的光刻机，制造出来的芯片性能很难满足现在芯片的要求。
在满足有顶级光源的前提下，还要有极致的机械精度。,有两个同步移动的工作台，一个用来装胶卷，另一个用来装底片。两个表需要严格同步，误差小于2纳米。这两个桌子必须有和导弹发射相同的加速度。而且对外界环境要求严格，湿度、温度、压力的变化都会影响工作过程的准确性。要把温度控制在千分之五，需要更精确的温度传感器。目前世界上最好的光刻机是SMEE，它包含13个子系统，3万多个机械部件，200多个传感器。任何一个部件都不能出问题，否则就会受到影响。
有科学家也曾说过，芯片目前代表了人类史上最尖端的科技成果，由此可见，制造一台光刻机是有多么不容易。
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